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集成電路芯片超純水設(shè)備

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集成電路芯片超純水設(shè)備

詳細(xì)介紹

　　半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

　　集成電路芯片超純水設(shè)備原理

　　EDI超純水系統(tǒng)是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。電滲析器的一對(duì)電極之間，通常由陰膜、陽(yáng)膜和隔板多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜、陰離子可透過(guò)陰膜)。淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜，被濃室中的陰膜截留，水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽(yáng)膜截留，這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水。而濃室的水中，由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化、提純、濃縮或精制的目的。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。制取超純水的這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。

　　集成電路芯片超純水設(shè)備優(yōu)勢(shì)及特點(diǎn)

　　1、工作壓力高，不漏水：由于模塊采用了橡膠O型圈多層密封，保證了模塊耐壓高、不漏水。

　　2、無(wú)化學(xué)物質(zhì)使用：由于濃水中填充了技術(shù)樹(shù)脂，降低了膜電阻，因此系統(tǒng)中不需要濃水循環(huán)及注鹽在淡水室填充分層排列樹(shù)脂，更有利于弱電解質(zhì)的祛除。

　　3、系統(tǒng)簡(jiǎn)單，配管簡(jiǎn)單，僅需3支配管(進(jìn)水管，產(chǎn)品水管和濃水管)，無(wú)循環(huán)泵及注鹽系統(tǒng)，不需要PLC程序控制器，系統(tǒng)建造成本和維護(hù)費(fèi)用低。

　　4、濃水回收，濃水水質(zhì)(20-100μS/cm)優(yōu)于原水水質(zhì)，可回收至RO前繼續(xù)使用。

　　5、其他優(yōu)勢(shì)，系統(tǒng)不注鹽，因此不產(chǎn)生氯氣破壞模塊內(nèi)部結(jié)構(gòu)及污染周?chē)h(huán)境，獨(dú)立的模塊電源控制，單一模塊需維修，不影響其他模塊正常工作。

　　EDI超純水系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域

　　EDI超純水系統(tǒng)適用于電子、半導(dǎo)體、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路、精密機(jī)械行業(yè)超純水，食品、飲料、飲用水的制備，精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水，其他行業(yè)所需的高純水制備，制藥工業(yè)工藝用水，海水、苦咸水的淡化，制藥行業(yè)用水大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等，海水、苦咸水淡化，汽車(chē)、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細(xì)化學(xué)品等用超純水。

關(guān)鍵詞：循環(huán)泵 PLC

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